杭州荧光测厚仪产品介绍

一六仪器 ***测厚仪 多道脉冲分析采集,***EFP算法 X射线荧光镀层测厚仪

应用于电子元器件,LED和照明,家用电器,通讯,汽车电子领域.EFP算法结合精准***决了各种大小异形多层多元素的涂镀层厚度和成分分析的业界难题

上照式：通常都有Z轴可移动，所以可对形状复杂的样品（如凹面内）做***并且测试，一般可***到2mm以内的深度，如Thick800A，另外有些厂商在此基础上配备了可变焦装置，搭配***的算法，可***到80mm以内的深度，如XDL237

下照式：通常都没有Z轴可移动，所以不可对凹面等无法直接接触测试窗口的位置进行***并测试，但操作简单，造价相对低；部分厂商或款式仪器搭载变焦装置也可测试复杂形状样品，同时也抬高了价格

薄膜是指在基板的垂直方向上所堆积的1～104的原子层或分子层。在此方向上，薄膜具有微观结构。

理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之间的距离。由于薄膜仅在厚度方向是微观的，其他的两维方向具有宏观大小。所以，表示薄膜的形状，一定要用宏观方法，即采用长、宽、厚的方法。因此，膜厚既是一个宏观概念，又是微观上的实体线度。

由于实际上存在的表面是不平整和连续的，而且薄膜内部还可能存在着***、杂质、晶格缺陷和表面吸附分子等，所以，要严格地定义和测量薄膜的厚度实际上是比较困难的。膜厚的定义应根据测量的方法和目的来决定。

经典模型认为物质的表面并不是一个抽象的几何概念，而是由刚性球的原子（分子）紧密排列而成，是实际存在的一个物理概念。

形状膜厚：dT是***接近于直观形式的膜厚，通常以um为单位。dT只与表面原子（分子）有关，并且包含着薄膜内部结构的影响；

质量膜厚：dM反映了薄膜中包含物质的多少，通常以μg/cm2为单位，它消除了薄膜内部结构的影响（如缺陷、***、变形等）；

物性膜厚：dP在实际使用上较有用，而且比较容易测量，它与薄膜内部结构和外部结构无直接关系，主要取决于薄膜的性质（如电阻率、透射率等）。

常规镀层厚度分析仪的原理

对材料表面保护、装饰形成的覆盖层，如涂层、镀层、敷层、贴层、化学生成膜等，在有关***和国际标准中称为覆层（coating）。覆层厚度测量已成为加工工业、表面工程质量检测的重要一环，是产品达到优等质量标准的必备手段。我们***的研发团队具备十年以上的从业经验，经与海内外多名***通力合作，研究开发出一系列能量色散X荧光光谱仪X荧光涂镀层测厚仪测试原理同样,L层电子被逐出可以产生L系辐射。为使产品国际化，我国出口商品和涉外项目中，对覆层厚度有了明确的要求。

覆层厚度的测量方法主要有：楔切法，光截法，电解法，厚度差测量法，称重法，X射线荧光法，β射线反向散射法，电容法、磁性测量法及涡流测量法等。