黄山测厚仪高品质的选择“本信息长期有效”

一六仪器 ***测厚仪 多道脉冲分析采集,***EFP算法 X射线荧光镀层测厚仪

应用于电子元器件,LED和照明,家用电器,通讯,汽车电子领域.EFP算法结合精准***决了各种大小异形多层多元素的涂镀层厚度和成分分析的业界难题

一六 荧光测厚仪 十年以上研发团队 集研发生产销售一体

元素分析范围:氯(CI)- 铀(U) 厚度分析范围:各种元素及有机物

一次可同时分析:23层镀层,24种元素 厚度检出限:0.005um***xiao测量面积0.002m㎡ ***深凹槽20mm以上

镀层厚度分析仪使用注意事项

1．仪器供电电压必须与仪器铭牌上的电压一致。仪器必须使用三线插头连到一个已接地的插座上。

2．镀层厚度分析仪为精密仪器，建议配备高精度的稳压电源。计算机和仪器应配备不间断电源（UPS）。

3．镀层厚度分析仪应特别注意与存在电磁的场合隔离开来。

4．仪器适合在10~40℃（50~104℉）的环境温度下操作使用，在0~50℃（32~122℉）的温度下存放。操作和存放的允许湿度范围在0~65%之间（非冷凝）。在操作过程中，环境温度和湿度应保持恒定。

5．仪器曝晒在阳光下时温度极易超过50℃。所以请不要在这样的环境下操作和存放仪器，以避免高温对仪器造成损害。

6．为避免短路，严禁仪器与液体直接接触。如果液体进入仪器，请立刻关闭仪器并在重新使用前请技术人员整体检查仪器。

7．镀层厚度分析仪不能用于酸性环境和***场合。

8．不要弄脏和刮擦元素片或调校标准片，否则会造成读数错误。

9．不要用任何机械或化学的方法清除元素片或调校标准片上的污物。如果必要的话，可以用一块不起毛的布轻轻擦除脏物。

薄膜是指在基板的垂直方向上所堆积的1～104的原子层或分子层。在此方向上，薄膜具有微观结构。

理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之间的距离。由于薄膜仅在厚度方向是微观的，其他的两维方向具有宏观大小。所以，表示薄膜的形状，一定要用宏观方法，即采用长、宽、厚的方法。因此，膜厚既是一个宏观概念，又是微观上的实体线度。

由于实际上存在的表面是不平整和连续的，而且薄膜内部还可能存在着***、杂质、晶格缺陷和表面吸附分子等，所以，要严格地定义和测量薄膜的厚度实际上是比较困难的。膜厚的定义应根据测量的方法和目的来决定。

经典模型认为物质的表面并不是一个抽象的几何概念，而是由刚性球的原子（分子）紧密排列而成，是实际存在的一个物理概念。

形状膜厚：dT是***接近于直观形式的膜厚，通常以um为单位。dT只与表面原子（分子）有关，并且包含着薄膜内部结构的影响；

质量膜厚：dM反映了薄膜中包含物质的多少，通常以μg/cm2为单位，它消除了薄膜内部结构的影响（如缺陷、***、变形等）；

物性膜厚：dP在实际使用上较有用，而且比较容易测量，它与薄膜内部结构和外部结构无直接关系，主要取决于薄膜的性质（如电阻率、透射率等）。

常规镀层厚度分析仪的原理

对材料表面保护、装饰形成的覆盖层，如涂层、镀层、敷层、贴层、化学生成膜等，在有关***和国际标准中称为覆层（coating）。将列表可测定的厚度范围-基本分析功能无标样检量线测厚，可采用一点或多点标准样品自动进行基本参数方法校正。覆层厚度测量已成为加工工业、表面工程质量检测的重要一环，是产品达到优等质量标准的必备手段。为使产品国际化，我国出口商品和涉外项目中，对覆层厚度有了明确的要求。

覆层厚度的测量方法主要有：楔切法，光截法，电解法，厚度差测量法，称重法，X射线荧光法，β射线反向散射法，电容法、磁性测量法及涡流测量法等。